1．干研磨：研磨時(shí)只需在研具表面涂以少量的潤(rùn)滑附加劑。如圖8-12a所示。砂粒在研磨過(guò)程中基本固定在研具上，它的磨削作用以滑動(dòng)磨削為主。這種方法生產(chǎn)率不高，但可達(dá)到很高的加工精度和較小的表面粗糙度值(Ra0.02～0.01μm)。

　　2．濕研磨：在研磨過(guò)程中將研磨劑涂在研具上，用分散的砂粒進(jìn)行研磨。研磨劑中除砂粒外還有煤油、機(jī)油、油酸、硬脂酸等物質(zhì)。在研磨過(guò)程中，部分砂粒存在于研具與工件之間，此時(shí)砂粒以滾動(dòng)磨削為主，生產(chǎn)率高，表面粗糙度Ra0.04～0.02μm，一般作粗加工用，但加工表面一般無(wú)光澤。

　　3．平面拋光機(jī)加工不銹鋼中，拋光軌跡對(duì)平面度的影響在保證工件加工表面和拋光器具表面上各點(diǎn)均有相同或相近的被切削條件和切削條件下(即保證工件走遍整個(gè)拋光盤(pán)表面,并使工件上各點(diǎn)具有相同或相近的拋光行程)，并保證其它拋光參數(shù)不變的情況下,拋光軌跡總長(zhǎng)度與總?cè)コ�量成正比，有效控制拋光軌跡長(zhǎng)度是控制拋光精度重要因素之一"拋光軌跡總長(zhǎng)度不影響表面粗糙度。

　　4．平面拋光機(jī)加工不銹鋼中，拋光壓力對(duì)平面度的影響壓力的主要作用是影響液流層的分布,液流層模型有三種形式：直接接觸、半接觸、滑動(dòng)接觸。a、當(dāng)壓力過(guò)大時(shí),屬于直接接觸,氧化層表面和拋光墊直接接觸,兩者之間幾乎沒(méi)有拋光液,屬于固一固接觸"摩擦力很大,機(jī)械作用很強(qiáng),化學(xué)作用很弱,很容易造成表面劃傷。

　　高準(zhǔn)確平面研磨和拋光原理及工藝簡(jiǎn)介：高準(zhǔn)確平面研磨和拋光是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盤(pán)基面上相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使工件表面變得非常高的平整度及光滑度，工件固定不需要強(qiáng)夾、真空、磁鐵，只是自然地放置在磨盤(pán)上，基本上能適合加工任何金屬和非金屬材料的工件，沒(méi)有了強(qiáng)制性的裝夾及一般磨床的剛性磨削，減少的了沖擊及發(fā)熱產(chǎn)生的次生變形，更用利于高精度和高光潔度的加工。即使一個(gè)沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)的操作員也可以輕易獲得較佳0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。